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    光刻机是芯片制造当中做核心的部分,华国在芯片制造🟤上面被🊸卡脖子最严♖🈕重的点就在这个上面。

    没🈳有最先进的光刻机,芯片制造就只能靠工艺制程去弥补去硬件的不足。

    可这种弥补不能够解决根本问题,说🃻🜻白了就属于治标不治本。

    想要摆脱这种尴尬情况,🋞还是得要自己有最先🊞进的光刻机才行。

    之前的时候,陈怀庆🙁🇛对国内光刻🞏📉机的情况,真的不怎么🟤了解。

    就只是知道申城微电🙁🇛子是国内最先进的光刻机研发和制造单♆🆊位🊸。

    申城微电子公司研发出来了后道90纳米光刻机,只不过因为大量采用国外的零部件,直接被国外零部件厂商断供🈥🀘☪了。

    申城微电子公司研发出来的🈨🀶🁎光刻机直接就⛥🜤没有办法实现量产♆🆊。

    不能够实现产品量产🙁🇛,也就意味着前期投入的研发费🅪🉖用收不回来。

    申城微电子公司🜞🃏🖷只能够转而去研究前道光刻机。

    前道光刻机主要应用于半导体屏幕的。

    是的,屏幕也是由光刻机来生产的。

    可现在却🏽有人告🜞🃏🖷诉陈怀庆,华国的光🃻🜻刻机并不差。

    陈怀庆抬头看向赵建胜:“各位领导,你们确定给☾我看的资料🊸,没有掺假?”

    第一台光刻机落地于60年代中后期,

    1980年自动对准分布投影光刻😜机🃻🜻研制成功,加工最细线宽为0.8微米。

    此时在国内🜣🄂,⚀光刻机研发团队还真的不少,不像是最后,就剩下申城微电子一个独苗。

    109厂是高技术半导体器件🐜和集成电路研制生产中试🟤厂。

    赵建胜嗤笑一声:“怎么,很惊讶?”

    陈怀庆:“不仅仅是惊讶,还很难以置信。本来,我以为我们的光刻机技术很落后,可却没有想到,国家已经发展到了这个🈼🃪🚦程度。”

    此时国内的光刻机技术和世界最先进水平相比,差距绝对不会太大,可能也就⚦📨🝖在五年内。